一场聚焦‘数字EDA赋能RISC-V落地演进’的技术研讨会成功举办。本次会议汇聚了来自半导体设计、电子设计自动化（EDA）工具开发、开源硬件生态及学术研究领域的众多专家与业界同仁，共同探讨了在当前集成电路产业变革浪潮下，数字EDA技术如何为RISC-V架构的规模化商用与持续演进提供关键支撑。
随着开源、开放的RISC-V指令集架构在全球范围内影响力日益扩大，其应用正从嵌入式、物联网等领域，快速向高性能计算、人工智能、汽车电子等更广阔的场景拓展。这一进程对芯片设计的效率、性能、功耗及可靠性提出了前所未有的高要求。数字EDA作为芯片设计流程的基石，其技术创新与工具链的成熟度，直接关系到RISC-V芯片从设计到流片、验证乃至最终成功上市的周期与质量。
研讨会上，与会专家围绕多个核心议题展开了深入交流。会议重点讨论了面向RISC-V的高效综合、布局布线、时序签核等数字实现流程的优化策略。专家指出，针对RISC-V处理器核的微架构特点，定制化的EDA设计流程和优化算法能够显著提升最终芯片的性能功耗比（PPA）。
验证环节作为确保芯片功能正确性的重中之重，成为另一大焦点。会议探讨了如何利用先进的仿真、形式化验证以及硬件仿真/原型验证平台，构建覆盖从RISC-V核心到复杂片上系统（SoC）的全栈验证解决方案，以应对日益增长的设计复杂性和缩短上市时间（Time-to-Market）的压力。
研讨会还关注了EDA与设计服务（Design Service）的深度融合。专业的数字技术服务提供商正通过提供基于先进工艺节点的RISC-V芯片设计服务、IP集成服务以及设计咨询，降低企业尤其是初创公司采用RISC-V架构的技术门槛和风险，加速创新产品的落地。与会者普遍认为，强大的EDA工具链与专业的数字技术服务相结合，构成了推动RISC-V生态繁荣的‘双引擎’。
本次技术研讨会的成功举办，不仅为业界提供了一个宝贵的技术交流与思想碰撞的平台，更清晰地勾勒出数字EDA技术与RISC-V生态协同发展的路线图。它标志着产业各方正携手努力，通过底层工具的持续创新与高效服务，夯实RISC-V架构迈向更广泛应用场景的技术基石，共同推动中国乃至全球集成电路产业的开放创新与可持续发展。
